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irradiation on the adsorption characteristics of xerogel microcapsules大西 貴士; 田中 康介; 小山 真一; Ou, L. Y.*; 三村 均*
NEA/NSC/R(2017)3, p.463 - 469, 2017/11
資源の有効利用、廃棄物低減のために、無機イオン交換体(タングストリン酸アンモニウム(AMP)またはフェロシアン化銅(KCuFC))をアルギネートゲルで内包するマイクロカプセル(AWP-ALGまたはKCuFC-ALG)、および、アルギネートゲルそのもの(ALG)を用いた核種分離システムの開発を実施している。ALG, AWP-ALGおよびKCuFC-ALGは、それぞれ、Zr, CsおよびPdを選択的に吸着することが明らかになっている。しかしながら、線照射に伴う吸着特性の変化については、十分に調べられていない。そこで、
Co線源によって線を3898kGyまで照射した後、各種マイクロカプセルの吸着特性を評価した。その結果、AWP-ALGまたはKCuFC-ALGは、内包する無機イオン交換体によってCsまたはPdを吸着するため、線照射を通して吸着特性に変化は見られなかった。一方、ALGは線照射に伴って放射線分解が進行し、Zrに対する吸着特性が低下した。
池田 佳隆; 今井 剛; 廣木 成治; 藤井 常幸; 坂本 慶司; 三枝 幹雄; 佐川 準基*; 阿部 哲也; 木村 晴行; 上原 和也; et al.
JAERI-M 85-131, 28 Pages, 1985/08
JT-60LHRF加熱装置の結合系に用いる真空導波管用Cu(銅)メッキの、メッキ方法について、放出ガス、表面分析により評価し、シアン化銅溶液によるCuメッキが最適であることを明らかにした。またべーキング、Arエッチングが、Cuメッキの表面組成や2次電子放出率に与える影響を調べ、ベーキング、Arエッチング共に2次電子放出率を大巾に低減させるが、純粋なCuメッキの表面では、1以下にならないことを明らかとした。さらにCuメッキに、C(炭素)コーティングを施せば、この値を1前後にできることも明らかとした。
大西 貴士; 小山 真一; Ou, L. Y.*; 三村 均*
no journal, ,
高機能性キセロゲルを用いた核種分離プロセス開発の一環として、Zr, CsおよびPdを選択的に吸着するために、アルギネートゲル、タングストリン酸アンモニウム内包アルギネートゲルおよびフェロシアン化銅内包アルギネートゲルを合成した。これらの吸着剤を乾燥状態で最大3898kGyまで線照射した後、バッチ吸着試験を実施した。その結果、照射量の増加に伴ってアルギネートゲルに対するZrの吸着率は低下したが、タングストリン酸アンモニウム内包アルギネートゲルに対するCsの吸着率、およびフェロシアン化銅内包アルギネートゲルに対するPdの吸着率は照射前後で変化しないことを明らかにした。
